研究生：顏采蓉

論文名稱:以離子束濺鍍製備奈米ITO薄膜之研究

摘要:  

銦錫氧化物（ITO）薄膜，由於其極佳的導電特性，及高可見光之透過性和高紅外光之反射性，一直是學術界及工業界積極探討之對象。本研究是利用離子束濺鍍法（Ion Beam Sputtering）形成氧化銦錫奈米薄膜。
首先以NaCl（100）單晶為基材，短時間濺鍍ITO奈米薄膜，經由穿透式電子顯微鏡（TEM）觀察，結果發現濺鍍時間太短形成非晶質結構（Amorphous），在濺鍍15分鐘下，開始形成結晶氧化銦錫薄膜，晶粒尺寸大小約為20~30nm，而且受到NaCl（100）影響，有良好的擇優取向。另一方式是以Si（100）單晶和康寧玻璃1737F為基材，長時間濺鍍下，直接得到氧化銦錫薄膜，藉由低掠角X光繞射儀（XRD）發現濺鍍所得薄膜有很好結晶性，再利用掃描式電子顯微鏡（SEM）和穿透式電子顯微鏡（TEM）來作微結構觀察，並利用四點探針量測電性，光譜儀量測光穿透率。最後探討製程參數對ITO薄膜結構、電性及可見光穿透率的影響。。

關鍵詞 : 銦錫氧化物薄膜，離子束濺鍍法，結晶性，導電性，透光性